Novel norbornene fluoroacrylate copolymers are provided. The polymers are useful in lithographic photoresist compositions, particularly chemical amplification resists. In a preferred embodiment, the polymers are substantially transparent to deep ultraviolet (DUV) radiation, i.e., radiation of a wavelength less than 250 nm, including 157 nm, 193 nm and 248 nm radiation, and are thus useful in DUV lithographic photoresist compositions. A process for using the composition to generate resist images on a substrate is also provided, i.e., in the manufacture of integrated circuits or the like.

Roman norbornene fluoroacrylate Copolymere werden zur Verfügung gestellt. Die Polymer-Plastiken sind im lithographischen Photoresistaufbau, besonders chemische Verstärkung widersteht nützlich. In einer bevorzugten Verkörperung sind die Polymer-Plastiken zur tiefen ultravioletten (DUV) Strahlung d.h. Strahlung einer Wellenlänge weniger als 250 nm, einschließlich 157 nm, 193 nm und 248 nm die Strahlung im wesentlichen transparent, und sind folglich DUV im lithographischen Photoresistaufbau nützlich. Ein Prozeß für das Verwenden des Aufbaus, um zu erzeugen widerstehen Bildern auf einem Substrat wird zur Verfügung gestellt auch d.h. in der Herstellung der integrierter Schaltungen oder der dergleichen.