The present invention relates to a projection exposure apparatus (10) for
and method of imaging a reticle (R) having patterned surface onto a
substrate (W) in photolithographic processes for manufacturing a variety
of devices. The invention further relates to an optical system (C) having
a folding member (M1) suited to the projection exposure apparatus, and a
method for manufacturing the optical system. The projection exposure
apparatus comprises an illumination optical system (IS) and a reticle
stage (RS) capable of holding the reticle so the normal line to its
patterned surface is in the direction of gravity. The apparatus also
includes a substrate stage (WS) capable of holding the substrate with its
surface normal parallel to the direction of gravity. The optical system
includes a first imaging optical system (A) comprising a concave
reflecting mirror and a dioptric optical member arranged along a first
optical axis. The first imaging optical system (A) forms an intermediate
image of the patterned surface. The optical system also includes a second
imaging optical system (B) having a second optical axis, and forms a
reduced image of the intermediate image on the substrate. The first
folding member is arranged in the optical path. from the first imaging
optical system to the second imaging optical system. The first and second
imaging optical systems and the first and second folding members are
positioned so that a reduced image of the pattered surface is formed
parallel to the pattern surface of the reticle, and the first and second
optical axes are positioned so that they are substantially parallel to the
direction of gravity.
Присытствыющий вымысел относит к прибору выдержки (10) для и методу проекции воображения перекрещение (R) делая по образцу поверхность на субстрат (W) в photolithographic процессах для изготовлять разнообразие приспособлений. Вымысел более дальнейший относит к оптически системе (C) имея складывая член (M1) одетый к прибору выдержки проекции, и методу для изготовлять оптически систему. Прибор выдержки проекции состоит из системы освещения оптически () и этапа перекрещения (RS) способного держать перекрещение поэтому нормальная линия к своей сделанной по образцу поверхности находится в направлении силы тяжести. Прибор также вклюает этап субстрата (WS) способный держать субстрат с своим поверхностным нормальным параллельным к направлению силы тяжести. Оптически система вклюает систему первого воображения оптически (A) состоя из вогнутого отражая зеркала и диоптрического оптически члена аранжированных вдоль первой оптически оси. Система первого воображения оптически (A) формирует промежуточное изображение сделанной по образцу поверхности. Оптически система также вклюает систему второго воображения оптически (B) имея вторую оптически ось, и формирует уменьшенное изображение промежуточного изображения на субстрате. Первый складывая член аранжирован в оптически курсе от системы первого воображения оптически к системе второго воображения оптически. Расположены системы первого и второго воображения оптически и первые и вторые складывая члены так, что уменьшенное изображение pattered поверхности будет сформированные параллельными к поверхности картины перекрещения, и расположены первые и вторые оптически оси так, что они будут существенн параллельны к направлению силы тяжести.
