The present invention relates to a positiive-working presensitized plate
useful for preparing a lithographic printing plate comprising a
positive-working photosensitive composition comprising at least one ester
of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid, at least one ester of
1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid, and at least one polymer
which is insoluble in water and soluble in an aqueous alkaline solution
and which comprises at least one group or bond selected from sulfonamide
group, urea bond or urethane bond. A lithographic printing plate prepared
from the presensitized plate of the present invention shows improvement of
chemical-resistance and printing durability, and good sensitivity,
coupling property, adaptability to ball-point pen, shelf stability, and
stability of sensitivity with time after exposure.
La presente invenzione riguarda un positiive-funzionamento presensitized la piastra utile per la preparazione del clichè litografico che contiene una composizione fotosensibile difunzionamento che contiene almeno un estere l'acido 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic, almeno un estere l'acido 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic ed almeno un polimero che è insolubile in acqua ed in sostanza solubile in una soluzione alcalina acquosa e che contiene almeno un gruppo o legame scelto dal gruppo del sulfamidico, legame dell'urea o legame dell'uretano. Un clichè litografico preparato dal presensitized la piastra del miglioramento attuale di esposizioni di invenzione di prodotto-resistenza e la durevolezza di stampa e buona sensibilità, proprietà di coppia, l'adattabilità alla penna di ball-point, stabilità della mensola e stabilità della sensibilità con tempo dopo esposizione.
