Microreaction molds and methods of molding very thin films onto substrate surfaces are provided. The molds and molding methods allow for consistency and uniformity in the thicknesses of the films that are applied to the substrate surfaces. The molds may be single composite, such as etched silica, or multicomposite, such as quartz/metal. The molds may further comprise an adjustable molding cavity. The molds of this invention are particularly applicable to generating thin polymeric films onto microchip substrates.

Microreaction formt und Methoden der Gestaltung der sehr Dünnfilme auf Substratoberflächen werden zur Verfügung gestellt. Die Form- und Formteilmethoden lassen Übereinstimmung und Gleichförmigkeit in den Stärken der Filme zu, die an den Substratoberflächen aufgetragen werden. Die Formen können einzelne Zusammensetzung, wie geätztes Silikon oder multicomposite, wie quartz/metal sein. Die Formen können einen justierbaren Formteilraum weiter enthalten. Die Formen dieser Erfindung sind auf das Erzeugen der dünnen polymerischen Filme auf Mikrochipsubstrate besonders anwendbar.