An edge bead remover for a photoresist composition disposed as a film on a surface, consisting essentially of a solvent mixture comprising from about 50 to about 80 parts by weight, based on the weight of the solvent mixture, of at least one di(C.sub.1 -C.sub.3)alkyl carbonate and from about 20 to about 50 parts by weight, based on the weight of the solvent mixture, of cyclopentanone. A method is also provided for treating a photoresist composition film disposed on a surface which method comprises contacting the photoresist composition with a solvent mixture, in an amount sufficient to produce a substantially uniform film thickness of the photoresist composition across the surface, wherein the solvent mixture comprises from about 50 to about 80 parts by weight, based on the weight of the solvent mixture, of at least one di(C.sub.1 -C.sub.3)alkyl carbonate and from about 20 to about 50 parts by weight, based on the weight of the solvent mixture, of cyclopentanone.

Remover χαντρών ακρών για μια photoresist σύνθεση που διατίθεται ως ταινία σε μια επιφάνεια, που αποτελείται ουσιαστικά από ένα διαλυτικό μίγμα περιλαμβάνοντας από περίπου 50 σε περίπου 80 μέρη από το βάρος, βασισμένη στο βάρος του διαλυτικού μίγματος, τουλάχιστον ενός di(C.sub.1 - ανθρακικό άλας C.sub.3)alkyl και από περίπου 20 σε περίπου 50 μέρη από το βάρος, βασισμένου στο βάρος του διαλυτικού μίγματος, cyclopentanone. Μια μέθοδος παρέχεται επίσης για τη μεταχείρηση μιας photoresist ταινίας σύνθεσης που διατίθεται σε μια επιφάνεια που η μέθοδος περιλαμβάνει την επαφή της photoresist σύνθεσης με ένα διαλυτικό μίγμα, σε ένα ποσό επαρκές για να παραγάγει ένα ουσιαστικά ομοιόμορφο πάχος ταινιών της photoresist σύνθεσης πέρα από την επιφάνεια, όπου το διαλυτικό μίγμα περιλαμβάνει από περίπου 50 σε περίπου 80 μέρη από το βάρος, βασισμένο στο βάρος του διαλυτικού μίγματος, τουλάχιστον ενός di(C.sub.1 - ανθρακικό άλας C.sub.3)alkyl και από περίπου 20 σε περίπου 50 μέρη από το βάρος, βασισμένου στο βάρος του διαλυτικού μίγματος, cyclopentanone.