An aqueous alkaline cleaning composition for efficient removal of Mo, Cu, W, or Cu/Ni-based conductive paste residue from screening masks, associated screening equipment and the like by using alkali metal salt and/or tetramethyl ammonium salt of polyacrylic acid, acrylic acid-methacrylic acid co-polymer, polyaspartic acid, polylactic acid, poly(acrylic acid-co-maleic anhydride), poly(maleic acid), with excess alkali for pH adjustment in the range of about 11.5-13.5, and a surfactant which may be a medium foam, low foam or no-foam surfactant, and is preferably an amphoteric and/or non-ionic and/or ionic surfactant.

Una composición alcalina acuosa de la limpieza para el retiro eficiente residuo conductor de la goma del MES, del Cu, de W, o de Cu/Ni-based de las máscaras de investigación, del equipo asociado y de similares usando la sal alcalina-metálica y/o la sal tetramethyl del amonio del ácido polyacrylic, copolímero ácido a'cido-acid-methacrylic de acrílico, ácido polyaspartic, ácido polylactic, anhídrido a'cido-co-acid-co-maleic poly(acrylic), ácido poly(maleic de la investigación), con exceso de álcali para el ajuste del pH en la gama de cerca de 11.5-13.5, y un surfactant que pueda ser una espuma media, un surfactant bajo de la espuma o de la ninguno-espuma, y es preferiblemente un surfactant amphoteric y/o no iónico e iónico.