Methods for reducing contamination of semiconductor substrates after
processing are provided. The methods include heating the processed
substrate to remove adsorbed chemical species from the substrate surface
by thermal desorption. Thermal desorption can be performed either in-situ
or ex-situ. The substrate can be heated by convection, conduction, and/or
radiant heating. The substrate can also be heated by treating the surface
of the processed substrate with an inert plasma during which treatment
ions in the plasma bombard the substrate surface raising the temperature
thereof. Thermal desorption can also be performed ex-situ by applying
thermal energy to the substrate during transport of the substrate from the
processing chamber and/or by transporting the substrate to a transport
module (e.g., a load lock) or to a second processing chamber for heating.
Thermal desorption during transport can be enhanced by purging an inert
gas over the substrate surface.
Des méthodes pour réduire la contamination des substrats de semi-conducteur après traitement sont fournies. Les méthodes incluent chauffer le substrat traité pour enlever des espèces chimiques adsorbées de la surface de substrat par désorption thermique. La désorption thermique peut être in-situ ou ex-situ exécuté. Le substrat peut être chauffé par la convection, la conduction, et/ou le chauffage radiant. Le substrat peut également être chauffé en traitant la surface du substrat traité avec un plasma inerte pendant lequel les ions de traitement dans le plasma bombardent la surface de substrat soulevant la température en. La désorption thermique peut également être ex-situ exécuté en s'appliquant l'énergie thermique au substrat pendant le transport du substrat à partir de la chambre de traitement et/ou en transportant le substrat à un module de transport (par exemple, une serrure de charge) ou à une deuxième chambre de traitement pour le chauffage. La désorption thermique pendant le transport peut être augmentée en purgeant un gaz inerte au-dessus de la surface de substrat.