A broad class of devices, both active and passive, such as waveguides, microcavities, filters, resonators, lasers, switches, modulators, etc. can be fabricated using the disclosed method. The method is one in which nanocavities in semiconductor membranes can be fabricated, which method is an advantage regardless of the type of device which is ultimately being fabricated therefrom. The method of the invention is illustrated in the case of a photonic crystals waveguide as being made in a silicon-on-insulator (SOI) material. However, the method is not limited to this type of material and can be used in other equivalent material structures such as AlGaAs, InGaAsP, or the like. The semiconductor membranes which are fabricated incorporate two dimensional photonic crystals for confinement of light in the lateral or in-plane direction and total internal reflection for the confinement in vertical direction.

Uma classe larga dos dispositivos, ativos e passivos, como os waveguides, os microcavities, os filtros, os ressonadores, os lasers, os interruptores, os moduladores, etc. pode ser fabricada usando o método divulgado. O método é um em que os nanocavities nas membranas do semicondutor podem ser fabricados, que o método é uma vantagem não obstante o tipo de dispositivo que está sendo fabricado finalmente therefrom. O método da invenção é ilustrado no exemplo de um waveguide photonic dos cristais como sendo feito em um material do silicone-em-isolador (SOI). Entretanto, o método não é limitado a este tipo de material e pode ser usado em outras estruturas materiais equivalentes tais como AlGaAs, InGaAsP, ou o gosto. As membranas do semicondutor que são fabricadas incorporam cristais photonic bidimensionais para o confinamento da luz no sentido da lateral ou do em-plano e totalizam a reflexão interna para o confinamento no sentido vertical.