Acid-catalyzed positive resist compositions which are imageable with 193 nm radiation and/or possibly other radiation and are developable to form resist structures of improved development characteristics and improved etch resistance are enabled by the use of resist compositions containing imaging polymer having a monomer with a pendant group containing plural acid labile moieties. Preferred pendant groups containing plural acid labile moieties are characterized by the presence of a bulky end group.

il positive Acido-catalizzato resiste alle composizioni che sono imageable con radiazione di 193 nm e/o possibilmente l'altra radiazione e sono developable formare resistono alle strutture delle caratteristiche migliorate di sviluppo e la resistenza migliorata incissione all'acquaforte è permessa tramite l'uso di resiste alle composizioni che contengono il polimero di formazione immagine che ha un monomero con un gruppo pendant che contiene le parti labili acide plurali. I gruppi pendant preferiti che contengono le parti labili acide plurali sono caratterizzati dalla presenza di un gruppo ingombrante dell'estremità.