A method of integrated resin preconditioning and hydrogen peroxide purification is provided. The method includes preconditioning a resin by washing the resin with deionized water to produce a washed resin, and contacting an effective amount of a preconditioning hydrogen peroxide solution with the washed resin to remove impurities from the washed resin, thereby producing a preconditioned resin. The method further includes passing a hydrogen peroxide solution to be purified through a bed of the preconditioned resin to form a hydrogen peroxide solution having a TOC content lower than a TOC content of the hydrogen peroxide solution to be purified, and passing the hydrogen peroxide solution having a TOC content lower than the TOC content of the hydrogen peroxide solution to be purified through one or more ion-exchange resin beds or directing the hydrogen peroxide solution having a TOC content lower than the TOC content of the hydrogen peroxide solution to be purified to a point of use in a semiconductor manufacturing facility the. The preconditioning hydrogen peroxide solution does not pass through the ion exchange resin beds and is not directed to the point of use.

Um método de preconditioning da resina e do purification integrados do peroxide de hidrogênio é fornecido. O método inclui preconditioning uma resina lavando a resina com água deionized para produzir uma resina lavada, e contatando uma quantidade eficaz de uma solução preconditioning do peroxide de hidrogênio com a resina lavada para remover as impurezas da resina lavada, produzindo desse modo uma resina preconditioned. O método mais adicional inclui a passagem de uma solução do peroxide de hidrogênio a purified através de uma cama da resina preconditioned para dar forma a uma solução do peroxide de hidrogênio que tem um mais baixo satisfeito do TOC do que um índice do TOC da solução do peroxide de hidrogênio a purified, e passando a solução do peroxide de hidrogênio que tem um TOC mais baixo satisfeito do que o índice do TOC da solução do peroxide de hidrogênio a purified através de um ou mais cama ion-exchange da resina ou que dirige a solução do peroxide de hidrogênio que tem um mais baixo satisfeito do TOC do que o índice do TOC da solução do peroxide de hidrogênio a purified a um ponto do uso em uma facilidade de manufacturing do semicondutor. A solução preconditioning do peroxide de hidrogênio não passa através das camas da resina da troca de íon e não é dirigida ao ponto do uso.