An organic semiconductor film is fabricated by applying a solution containing an organic semiconductor material and a solvent to a substrate, e.g., by solution casting, and evaporating the solvent. The characteristics of the substrate surface, the organic semiconductor material, and the process parameters are selected to provide desirable nucleation and crystal growth. The resultant organic semiconductor film contains a large area, e.g., a continuous area greater than 1 cm.sup.2, that exhibits a relatively high charge carrier mobility of at least about 10.sup.-4 cm.sup.2 V.sup.-1 s.sup.-1 room temperature.

Uma película orgânica do semicondutor é fabricada aplicando uma solução que contem um material orgânico do semicondutor e um solvente a uma carcaça, por exemplo, pela carcaça da solução, e evaporando o solvente. As características da superfície da carcaça, do material orgânico do semicondutor, e dos parâmetros process são selecionadas para fornecer o nucleation desejável e o crescimento de cristal. A película orgânica resultante do semicondutor contem uma área grande, por exemplo, uma área contínua mais extremamente de 1 cm.sup.2, esse exibições uma mobilidade de portador relativamente elevada da carga ao menos aproximadamente da temperatura de quarto de 10.sup.-4 cm.sup.2 V.sup.-1 s.sup.-1.

 
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