A glass substrate for an information recording medium has an acid resistance represented by an etching rate of at most 45 nm/min. upon contact with a hydrofluoric acid having a temperature of 50.degree. C. and a concentration of 0.1 weight %. The glass substrate has a recording surface having an average surface roughness Ra smaller than 0.3 nm.

Un substrat de verre pour un milieu d'enregistrement de l'information a une résistance acide représentée par un taux gravure à l'eau-forte de tout au plus 45 nm/min. lors du contact avec de l'acide fluorhydrique ayant une température de 50.degree. Le C. et une concentration de 0.1 poids %. le substrat de verre a une surface d'enregistrement avoir un Ra extérieur moyen de rugosité plus petit que 0.3 nm.