Processes for coating three dimensional inorganic substrates, with shielded surfaces, with metal oxide-containing coatings are disclosed. Such processes comprise contacting a substrate with a metal oxide precursor reactant mixture at fast reaction and elevated temperature reaction conditions maintained by a flame combustion source to form a substrate containing metal oxide on at least a portion of the three dimensions and shielded surfaces of the substrate. Also disclosed are substrates coated with metal oxide-containing coatings for use in various applications including catalysis, shielding, electrostatic dissipation and battery applications.

Os processos para revestir carcaças inorgánicas tridimensionais, com as superfícies protegidas, com os revestimentos óxido-contendo do metal são divulgados. Tais processos compreendem contatar uma carcaça com uma mistura do reactant do precursor do óxido de metal na reação rápida e nas condições elevated da reação da temperatura mantidas por uma fonte da combustão da flama para dar forma a uma carcaça que contem o óxido de metal ao menos em uma parcela das três dimensões e das superfícies protegidas da carcaça. São divulgadas também as carcaças revestidas com os revestimentos óxido-contendo do metal para o uso em várias aplicações including a dissipação do catalysis, proteger, as eletrostáticas e as aplicações da bateria.

 
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< Process for producing thin film metal oxide coated substrates

< Process for producing thin film metal oxide coated substrates

> Low-K dielectric constant CVD precursors formed of cyclic siloxanes having in-ring SI--O--C, and uses thereof

> NL4 tie ligand homologue

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