A semiconductor laser array apparatus, comprising: a first laser array structure which includes a plurality of first laser oscillation units arranged side by side at an interval, and a first current blocking material filling a space between each pair of adjacent laser oscillation units and, a second laser array structure which includes a plurality of second laser array structure arranged side by side at an interval and a second current blocking material filling a space between each pair of adjacent second laser oscillation units. Here, laser beams from the activated first and second laser array structures leak to the outside of those laser array structure so as to form first and second distribution regions of the laser beams respectively, and the first and second laser array structures are close to each other so that the first and second distribution regions contact or overlap with each other.

Un'apparecchiatura di allineamento di laser a semiconduttore, contenente: una prima struttura di allineamento di laser che include una pluralità di prime unità di oscillazione del laser ha organizzato parallelamente ad un intervallo e ad un primo materiale ostruente corrente che riempie uno spazio fra ogni accoppiamento delle unità adiacenti di oscillazione del laser e, una seconda struttura di allineamento di laser che include una pluralità di seconda struttura di allineamento di laser organizzata parallelamente ad un intervallo e ad un secondo materiale ostruente corrente che riempiono uno spazio fra ogni accoppiamento delle seconde unità adiacenti di oscillazione del laser. Qui, fasci laser dal attivati in primo luogo e seconda perdita delle strutture di allineamento di laser alla parte esterna dei quei struttura di allineamento di laser in modo da formare in primo luogo e le seconde regioni di distribuzione dei fasci laser rispettivamente e le prime e seconde strutture di allineamento di laser sono vicino a vicenda in modo che le prime e seconde regioni di distribuzione si mettano in contatto con o coincidano con a vicenda.

 
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