An apparatus for distributing RF power outputs to a first electrode in a parallel plate electrode system for generating plasma in depositing films on a substrate. A RF power output is applied to a distributed RF matching network to excite a plasma from a process gas stream to deposit a uniform film onto the substrate. The distributed matching network includes a load capacitor for receiving a radio frequency power input and an inductor having first and second ends with the first end coupled to the load capacitor. The matching network also includes multiple drive capacitors each of which couples the second end of the inductor to a different one of multiple points distributed on the first electrode. The capacitance of each drive capacitor is user-selectable, and the points on the backing plate to which the drive capacitors are coupled are user-selectable.

Un aparato para distribuir salidas de energía del RF a un primer electrodo en un sistema paralelo del electrodo de la placa para generar plasma en películas que depositan en un substrato. Una salida de energía del RF se aplica a una red que empareja distribuida del RF para excitar un plasma de una corriente de proceso del gas para depositar una película uniforme sobre el substrato. La red que empareja distribuida incluye un condensador de la carga para recibir una entrada de energía de la radiofrecuencia y un inductor que tienen primero y los segundos extremos con el primer extremo juntado al condensador de la carga. La red que empareja también incluye los condensadores múltiples cada uno de la impulsión que de pares el segundo extremo del inductor diverso de puntos múltiples distribuyó en el primer electrodo. La capacitancia de cada condensador de la impulsión es seleccionable por el usuario, y los puntos en la placa del forro a la cual se juntan los condensadores de la impulsión son seleccionables por el usuario.