A trapezoidal shaped silicon slider is described in the present invention. The slider has a first parallel surface larger than a second parallel surface, thereby generating a built-in positive pitch with respect to a recording medium when the slider is incorporated into a hard disk drive. The slider further includes round edges at the first parallel surface, longitudinal holes within its body, non-planar slanted side surfaces, and a rounded leading edge. The silicon, trapezoidal slider is fabricated using a deep reactive ion etching (DRIE) technique.

Un glisseur formé trapézoïdal de silicium est décrit dans la présente invention. Le glisseur a un plus grand extérieur du premier parallèle qu'une deuxième surface de parallèle, produisant de ce fait d'un lancement positif intégré en ce qui concerne un milieu d'enregistrement quand le glisseur est incorporé à une commande de disque dur. Le glisseur autre inclut autour des bords sur la première surface de parallèle, les trous longitudinaux dans son corps, les surfaces latérales inclinées non-planaires, et un principal bord arrondi. Le silicium, glisseur trapézoïdal est fabriqué en utilisant une technique réactive profonde gravure à l'eau-forte d'ion (DRIE).