A method for treating a photosensitive lithographic printing plate, which comprises exposing the photosensitive lithographic printing plate to laser light, developing with a developer containing an alkali metal silicate and then carrying out post-exposure treatment, said photosensitive lithographic printing plate being prepared by forming a photopolymerizable photosensitive layer having a film thickness of from 1.2 to 4 g/m.sup.2 and further forming a protective layer having a film thickness of from 2 to 8 g/m.sup.2 on a support having a centerline average height (Ra) of at least 0.35 .mu.m.

Un método para tratar una placa de impresión litográfica fotosensible, que abarca exponer la placa de impresión litográfica fotosensible a la luz laser, convirtiéndose con un revelador que contiene un silicato alcalino-metálico y después que realiza el tratamiento de post-exposición, placa de impresión litográfica fotosensible dicha que es preparada formando una capa fotosensible photopolymerizable que tiene un espesor del film a partir de 1.2 a 4 g/m.sup.2 y más futuros formando una capa protectora que tiene un espesor del film a partir de 2 a 8 g/m.sup.2 en una ayuda que tiene una altura media de la línea central (ra) por lo menos de 0.35 mu.m.