This invention discloses compositions that can be polymerized/crosslinked imagewise upon exposure to ionization radiation such as x-ray, electron beam, ion beam, and gamma-ray. This invention also discloses methods of use for these compositions for microfabrication of ceramics, for stereolithography, and for x-ray, e-beam, and ion-beam lithography which can be used for photoresists.

Esta invención divulga las composiciones que pueden ser polymerized/crosslinked des imagen sobre la exposición a la radiación de la ionización tal como radiografía, haz electrónico, viga de ion, y rayo gama. Esta invención también divulga métodos de uso para estas composiciones para el microfabrication de la cerámica, para el stereolithography, y para la radiografía, la e-viga, y la litografía del haz iónico que se puede utilizar para los photoresists.