The present invention relates to a cleaner for lithography which is
excellent in the ability to dissolve a resist and highly safe to the human
body and which can be used usefully to clean a coater such as in a coater
cup, to remove an unnecessary resist from a substrate when or after
coating of a resist, to remove the resist from the substrate after the
object using the resist was achieved, and to clean and rinse the substrate
after removal of the resist. The cleaner for lithography comprises a
homogeneous solution of at least one organic solvent selected from the
group consisting of propylene glycol alkyl ether, propylene glycol alkyl
ether acetate, ethylene glycol alkyl ether, ethylene glycol alkyl ether
acetate, acetic acid alkyl ester, propionic acid alkyl ester,
alkoxypropionic acid alkyl ester, lactic acid alkyl ester, aliphatic
ketone, and alkoxybutanol and at least one selected from alcohols having
alkyl group with 1 to 4 carbon atoms.
La actual invención se relaciona con un limpiador para la litografía que es excelente en la capacidad de disolver un resistir y altamente seguro al cuerpo humano y que se puede utilizar provechosamente para limpiar un coater tal como adentro una taza del coater, para quitar un innecesario resiste de un substrato cuando o después de la capa de un resistir, para quitar el resistir del substrato después de que el objeto que usaba el resistir fuera alcanzado, y para limpiar y para aclarar el substrato después del retiro del resistir. El limpiador para la litografía abarca una solución homogénea por lo menos de un solvente orgánico seleccionado del éter alkyl del glicol del propylene del grupo que consiste en, el acetato alkyl del éter del glicol del propylene, éter alkyl del glicol de etileno, acetato alkyl del éter del glicol de etileno, éster alkyl del ácido acético, éster alkyl del ácido propionic, éster alkyl ácido alkoxypropionic, éster alkyl del ácido láctico, cetona alifática, y alkoxybutanol y por lo menos uno seleccionados de los alcoholes que tienen grupo alkyl con 1 a 4 átomos de carbón.
