A positive image-forming material for use with infrared laser is provided. The material includes a substrate, a layer (A) containing not less than 50% by weight of a copolymer which contains, as a copolymerization component, not less than 10% by mol of at least one of the following monomers (a-1) to (a-3), wherein (a-1) is a monomer having in the molecule a sulfonamide group wherein at least one hydrogen atom is linked to a nitrogen atom, (a-2) is a monomer having in the molecule an active imino group represented by the following general formula (I): ##STR1## and (a-3) is a monomer selected from acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate and hydroxystyrene, which respectively have a phenolic hydroxyl group; and a layer (B) containing not less than 50% by weight of an aqueous alkali solution-soluble resin having a phenolic hydroxyl group. The layer (A) and the layer (B) contain a compound which generates heat upon absorbing light. An image forming material includes the following compounds (II) and (III): R.sup.1 --SO.sub.2 --SO.sub.2 --R.sup.2 (II) R.sup.1 --SO.sub.2 --R.sup.2 (III) wherein R.sup.1 and R.sup.2 may be the same or different, and R.sup.1 and R.sup.2 represent a substituted or non-substituted alkyl, alkenyl or aryl group. The photosensitive image-forming material and positive photosensitive composition have excellent stability of sensitivity with regard to concentration of a developing solution, i.e., have excellent development latitude.

Un materiale immagine-formante positivo per uso con il laser infrarosso è fornito. Il materiale include un substrato, uno strato (A) che contiene 50% del peso di un copolimero a cui contiene, come componente di copolimerizzazione, 10% dal mol almeno di uno di seguenti monomeri (a-1) (a-3), in cui (a-1) è un monomero che ha nella molecola un gruppo del sulfamidico in cui almeno un atomo dell'idrogeno è collegato ad un atomo dell'azoto, (a-2) è un monomero che ha nella molecola che un gruppo attivo di imino ha rappresentato dalla seguente formula generale (i): ## del ## STR1 e (a-3) è un monomero scelto dall'acrilamide, dal methacrylamide, dall'acrilato, dal metacrilato e dal hydroxystyrene, che hanno rispettivamente un gruppo fenolico dell'idrossile; e uno strato (B) che contiene 50% del peso di una resina soluzione-solubile dell'alcali acquoso che ha un gruppo fenolico dell'idrossile. Lo strato (A) e lo strato (B) contengono un residuo che genera il calore su luce assorbente. Un'immagine che forma il materiale include i seguenti residui (ii) e (iii): R.sup.1 -- SO.sub.2 -- SO.sub.2 -- R.sup.2 (ii) R.sup.1 -- SO.sub.2 -- R.sup.2 (iii) in cui R.sup.1 e R.sup.2 possono essere lo stesso o differente e R.sup.1 e R.sup.2 rappresentano un gruppo alchilico, alchenile o arilico sostituito o non-sostituito. Il materiale immagine-formante fotosensibile e la composizione fotosensibile positiva hanno stabilità eccellente della sensibilità riguardo a concentrazione di una soluzione di sviluppo, cioè, abbia latitudine eccellente di sviluppo.