The invention relates to a semiconductor exposure ArF excimer laser device
having a narrow line width containing 95% of the energy of 1.15 pm or less
while using an optical system of prior art beam expansion prisms and a
diffraction grating. The ArF excimer laser device for narrowing the
bandwidth has a line-narrowing optical system formed of an echelle
diffraction grating (3) in a Littrow arrangement, a beam expansion prism
system composed of at least three prisms arranged on the incident side of
the echelle diffraction grating, and slits 4. The blaze angle (.theta.) of
the diffraction grating 3 is 82.degree. or less, the magnification rate M
of the beam expansion prism system is 26 times or less, the oscillation
pulse width T.sub.is is 60 ns or less, the length L of the resonator is in
a range of 1000 to 1350 mm and the slit width W is 1.0 mm or more,
satisfying relation (W+11) cos
.theta./(LMT.sub.is.sup.0.853)<4.94.times.10.sup.-6.
L'invenzione riguarda un dispositivo del laser del excimer di ArF di esposizione a semiconduttore che ha una linea stretta larghezza contenere 95% dell'energia di pm 1.15 o di di meno mentre usando un sistema ottico dei prismi di espansione del fascio di arte anteriore e di un reticolo di diffrazione. Il dispositivo del laser del excimer di ArF per lo stringimento della larghezza di banda ha un sistema ottico distringimento formato di un reticolo di diffrazione del echelle (3) in una disposizione di Littrow, un sistema del prisma di espansione del fascio composto almeno di tre prismi organizzati dal lato di avvenimento del reticolo di diffrazione del echelle e fende 4. L'angolo della fiammata (theta.) del reticolo di diffrazione 3 è 82.degree. o di meno, il tasso m. di ingrandimento del sistema del prisma di espansione del fascio è 26 volte o di meno, la larghezza T.sub.is di impulso di oscillazione è 60 NS o di meno, la lunghezza L del risonatore è in una gamma di 1000 - 1350 millimetri e la larghezza W della fessura è di 1.0 millimetro o più, soddisfacendo il theta./(LMT.sub.is.sup.0.853) del cos di rapporto (W+11)
