Within a method for forming a color filter image array optoelectronic microelectronic fabrication, and the color filter image array optoelectronic microelectronic fabrication formed employing the method, there is provided a substrate having formed therein a series of photo active regions. There is also formed over the substrate at least one color filter layer having formed therein a color filter region having a concave upper surface. There is also formed upon the at least one color filter layer and planarizing the at least one color filter region having the concave upper surface, a planarizing layer. The planarizing layer provides for enhanced resolution of the color filter image array optoelectronic microelectronic fabrication.

Innerhalb einer Methode für die Formung einer Farbe Filterbild-Reihe optoelektronischen Mikroelektronischen Herstellung, und die Farbe Filterbild-Reihe optoelektronische Mikroelektronische Herstellung bildete das Einsetzen der Methode, wird einem Substrat zur Verfügung gestellt, das darin eine Reihe aktive Regionen des Fotos gebildet wird. Wird auch über dem Substrat mindestens ein Farbe Setzbett gebildet, das darin eine Farbe Filterregion gebildet wird, die eine konkave Oberfläche hat. Wird auch nach dem mindestens einem Farbe Setzbett und dem Planarizing die mindestens eine Farbe Filterregion gebildet, welche die konkave Oberfläche, eine planarizing Schicht hat. Die planarizing Schicht stellt für erhöhte Auflösung der Farbe Filterbild-Reihe optoelektronischen Mikroelektronischen Herstellung zur Verfügung.