The present invention provides a heat-resistant and low-electric-resistance aluminum alloy thin film which, even after heat treatment at 300-400.degree. C., exhibits no hillock generation and has a specific resistance of 7 .mu..OMEGA..multidot.cm or less and also provides a sputtering target material employed for forming such aluminum alloy thin film. The thin film of aluminum alloy of the present invention contains, as components of the alloy, aluminum, carbon, and magnesium, wherein the carbon content and the magnesium content fall within a region defined by the following formulas: X=0.61; X=8; Y=2; and Y=-0.13X+1.3, wherein Y (at %) represents the carbon content by atomic percent and X (at %) represents the magnesium content by atomic percent, and the balance of (X+Y) contains aluminum and unavoidable impurities. The sputtering target material of the present invention for forming thin film of aluminum alloy, containing, as components of the material, aluminum, carbon, magnesium, and unavoidable impurities, wherein the carbon content and the magnesium content fall within a region defined by the aforementioned formulas, and the balance of (X+Y) is aluminum and unavoidable impurities.

La présente invention fournit une couche mince anti-calorique et de bas-électrique-résistance d'alliage d'aluminium qui, même après le traitement thermique à 300-400.degree. C., objets exposés aucune génération de hillock et a une résistance spécifique du mu..Oméga..multidot.cm 7 ou de moins et fournit également un matériel de cible de pulvérisation utilisé pour former une telle couche mince d'alliage d'aluminium. La couche mince de l'alliage d'aluminium de la présente invention contient, comme composants de l'alliage, de l'aluminium, du carbone, et du magnésium, où le contenu de carbone et le contenu de magnésium fait partie d'une région définie par les formules suivantes : X=0.61 ; X=8 ; Y=2 ; et Y=-0.13X+1.3, où Y (chez %) représente le contenu de carbone par des pour cent et X atomiques (chez %) représente le contenu de magnésium par des pour cent atomiques, et l'équilibre de (X+Y) contient les impuretés en aluminium et inévitables. Le matériel de cible de pulvérisation de la présente invention pour former la couche mince de l'alliage d'aluminium, contenant, comme composants du matériel, de l'aluminium, du carbone, du magnésium, et des impuretés inévitables, où le contenu de carbone et le contenu de magnésium fait partie d'une région a défini par les formules mentionnées ci-dessus, et l'équilibre de (X+Y) est les impuretés en aluminium et inévitables.