The invention concerns an optical measurement arrangement having an ellipsometer, in which an incident beam (16) of polarized light is directed at an angle of incidence .alpha..noteq.0.degree. onto a measurement location (M) on the surface of a specimen (P). Information concerning properties of the specimen (P), preferably concerning layer thicknesses and optical material properties such as refractive index n, extinction coefficient k, and the like, is obtained from an analysis of a return beam (17) reflected from the specimen (P). The incident beam (16) is directed by a mirror objective (15) onto the surface of the specimen (P). The return beam (17) is also captured by the mirror objective (15). The result is to create an optical measurement arrangement, operating on the ellipsometric principle, which has a simple, compact configuration and permits a high measurement accuracy down to the sub-nanometer range.

Η εφεύρεση αφορά μια οπτική ρύθμιση μέτρησης που έχει ένα ellipsometer, στο οποίο μια συναφής ακτίνα (16) του πολωμένου φωτός κατευθύνεται διαγωνίως της επίπτωσης αλπχα..νοτεq.0.δεγρεε. επάνω σε μια θέση μέτρησης (M) στην επιφάνεια ενός δείγματος (P). Οι πληροφορίες σχετικά με τις ιδιότητες του δείγματος (P), κατά προτίμηση σχετικά με τα πάχη στρώματος και τις οπτικές υλικές ιδιότητες όπως ο διαθλαστικός δείκτης ν, συντελεστής Κ εξάλειψης, και όμοιοι, λαμβάνονται από μια ανάλυση μιας επιστροφής ακτίνας (17) που απεικονίζεται από το δείγμα (P). Η συναφής ακτίνα (16) κατευθύνεται από έναν στόχο καθρεφτών (15) επάνω στην επιφάνεια του δείγματος (P). Η επιστροφής ακτίνα (17) συλλαμβάνεται επίσης από το στόχο καθρεφτών (15). Το αποτέλεσμα είναι να δημιουργηθεί μια οπτική ρύθμιση μέτρησης, που λειτουργεί στην ελλιπσομετρική αρχή, η οποία έχει μια απλή, συμπαγή διαμόρφωση και τις άδειες μια υψηλή ακρίβεια μέτρησης κάτω στη σειρά υπο-- nanometer.