The disclosure relates to a process for forming a deposit on the surface of a metallic or conductive surface. The process employs an energy enhanced process to deposit a silicate containing coating or film upon a metallic or conductive surface.

El acceso se relaciona con un proceso para formar un depósito en la superficie de una superficie metálica o conductora. El proceso emplea un proceso realzado energía para depositar un silicato que contiene la capa o la película sobre una superficie metálica o conductora.