The present invention relates to a photo acid generator which has high transparency to exposure light and also has excellent heat stability in a photoresist composition for lithography using far ultraviolet light, especially light of ArF excimer laser. The photo acid generator contains a sulfonium salt compound represented by the following general formula (1): ##STR1## wherein R.sup.1 represents an alkylene group, or an alkylene group having an oxo group, R.sup.2 represents a straight-chain, branched-chain, monocyclic, polycyclic or bridged cyclic alkyl group having an oxo group, or a straight-chain, branched-chain, monocyclic, polycyclic or bridged cyclic alkyl group, provided that either of R.sup.1 and R.sup.2 has an oxo group, and Y.sup.- represents a counter ion.

Η παρούσα εφεύρεση αφορά μια όξινη γεννήτρια φωτογραφιών που έχει την υψηλή διαφάνεια στο φως έκθεσης και έχει επίσης την άριστη σταθερότητα θερμότητας σε μια photoresist σύνθεση για τη λιθογραφία που χρησιμοποιεί το μακρινό υπεριώδες φως, ελαφρύς ιδιαίτερα excimer ArF του λέιζερ. Η όξινη γεννήτρια φωτογραφιών περιέχει μια αλατισμένη ένωση sulfonium που αντιπροσωπεύεται από τον ακόλουθο γενικό τύπο (1): ## STR1 ## όπου R.sup.1 αντιπροσωπεύει μια alkylene ομάδα, ή μια alkylene ομάδα που έχει μια oxo ομάδα, R.sup.2 αντιπροσωπεύει μια straight-chain, της διακλαδωμένης αλυσίδας, monocyclic, πολυκυκλική ή γεφυρωμένη κυκλική αλκυλική ομάδα που έχουν μια oxo ομάδα, ή μια straight-chain, της διακλαδωμένης αλυσίδας, monocyclic, πολυκυκλική ή γεφυρωμένη κυκλική αλκυλική ομάδα, υπό τον όρο ότι καθένα R.sup.1 και R.sup.2 έχει μια oxo ομάδα, και Y.sup. - αντιπροσωπεύει ένα αντίθετο ιόν.