A method of operating a micromechanical scanning apparatus includes the
steps of identifying a radius of curvature value for a micromechanical
mirror and modifying a laser beam to compensate for the radius of
curvature value. The identifying step includes the steps of measuring the
far-field optical beam radius of a laser beam reflected from the
micromechanical mirror. The measured far-field optical beam radius is then
divided by a theoretical far-field optical beam radius reflected from an
ideal mirror to yield a ratio value M. An analytical expression for M is
curve-fitted to experimental data for M with the focal-length as a fitting
parameter. The focal-length value determined by this procedure, resulting
in a good fit between the analytical curve and the experimental data, is
equal to half the radius of curvature of the micromechanical mirror. The
micromechanical scanning apparatus is operated by controlling the
oscillatory motion of a first micromechanical mirror with a first
micromechanical spring and regulating the oscillatory motion of a second
micromechanical mirror with a second micromechanical spring.
Μια μέθοδος μια μικρομηχανική συσκευή ανίχνευσης περιλαμβάνει τα βήματα του προσδιορισμού μιας ακτίνας της αξίας κυρτότητας για έναν μικρομηχανικό καθρέφτη και της τροποποίησης μιας ακτίνας λέιζερ για να αντισταθμίσει την ακτίνα της αξίας κυρτότητας. Το προσδιορίζοντας βήμα περιλαμβάνει τα βήματα της μέτρησης της απομακρυσμένης οπτικής ακτίνας ακτίνων μιας ακτίνας λέιζερ που απεικονίζεται από το μικρομηχανικό καθρέφτη. Η μετρημένη απομακρυσμένη οπτική ακτίνα ακτίνων διαιρείται έπειτα με μια θεωρητική απομακρυσμένη οπτική ακτίνα ακτίνων που απεικονίζεται από έναν ιδανικό καθρέφτη για να παραγάγει μια αναλογία αξία μ. Μια αναλυτική έκφραση για το μ καμπύλη-εγκαθίσταται στα πειραματικά στοιχεία για το μ με το εστιακός-μήκος ως παράμετρος συναρμολογήσεων. Η αξία εστιακός-μήκους που καθορίζεται από αυτήν την διαδικασία, με συνέπεια ένα αγαθό κατάλληλο μεταξύ της αναλυτικής καμπύλης και των πειραματικών στοιχείων, είναι ίση με τη μισή ακτίνα της κυρτότητας του μικρομηχανικού καθρέφτη. Η μικρομηχανική συσκευή ανίχνευσης χρησιμοποιείται με τον έλεγχο της ταλαντώσεων κίνησης ενός πρώτου μικρομηχανικού καθρέφτη με ένα πρώτο μικρομηχανικό ελατήριο και τη ρύθμιση της ταλαντώσεων κίνησης ενός δεύτερου μικρομηχανικού καθρέφτη με ένα δεύτερο μικρομηχανικό ελατήριο.