Methods of selectively removing post-etch polymer material and dielectric antireflective coatings (DARC) without substantially etching an underlying carbon-doped low k dielectric layer, and compositions for the selective removal of a DARC layer and post-etch polymer material are provided. A composition comprising trimethylammonium fluoride is used to selectively etch a dielectric antireflective coating layer overlying a low k dielectric layer at an etch rate of the antireflective coating layer to the low k dielectric layer that is greater than the etch rate of the antireflective coating to a TEOS layer. The method and composition are useful, for example, in the formation of high aspect ratio openings in low k (carbon doped) silicon oxide dielectric layers and maintaining the integrity of the dimensions of the formed openings during a cleaning step to remove a post-etch polymer and antireflective coating.

I metodi selettivamente di rimozione alberino-incidono il polimero ed i rivestimenti all'acquaforte antireflective dielettrici (DARC) senza sostanzialmente incidere uno strato all'acquaforte dielettrico basso carbonio-verniciato di fondo di K e le composizioni per la rimozione selettiva di un DARC fanno uno strato di ed alberino-incidono il polimero all'acquaforte sono fornite. Una composizione che contiene il fluoruro del trimethylammonium è usata per incidere selettivamente uno strato all'acquaforte ricoprente antireflective dielettrico che ricopre uno strato dielettrico basso di K ad un tasso incissione all'acquaforte dello strato ricoprente antireflective allo strato dielettrico basso di K che è più grande del tasso incissione all'acquaforte del rivestimento antireflective ad uno strato di TEOS. Il metodo e la composizione sono utili, per esempio, nella formazione di alte aperture di allungamento negli strati dielettrici e nell'effettuare di K (carbonio verniciato) dell'ossido basso del silicone l'integrità delle dimensioni delle aperture formate durante il punto di pulizia rimuovere alberino-incida il polimero ed il rivestimento all'acquaforte antireflective.