An aluminum alloy sputter target having a sputter target face for sputtering the sputter target is provided. The sputter target face has a textured-metastable grain structure. The textured-metastable grain structure has a grain orientation ratio of at least 35 percent (200) orientation. The textured-metastable grain structure is stable during sputtering of the sputter target. The textured-metastable grain structure has a grain size of less than 5 .mu.m. The method forms aluminum alloy sputter targets by first cooling an aluminum alloy target blank to a temperature of less than -50.degree. C. Then deforming the cooled aluminum alloy target blank introduces plastic strain into the target blank and reduces the grain size of the grains to form a textured-metastable grain structure. Finally, finishing the aluminum alloy target blank forms a finished sputter target that maintains the textured-metastable grain structure of the finished sputter target.

Обеспечен алюминиевый сплав sputter цель имея сторону цели sputter для sputtering цель sputter. Сторона цели sputter имеет текстурировать-poluusto1civuh структуру зерна. Текстурировать-poluusto1civa4 структура зерна имеет коэффициент ориентации зерна по крайней мере ориентации 35 процентов (200). Текстурировать-poluusto1civa4 структура зерна стабилизирована во время sputtering цели sputter. Текстурировать-poluusto1civa4 структура зерна имеет размер зерна меньш mu.m чем 5. Сплав форм метода алюминиевый sputter цели сперва охлаждать пробел цели алюминиевого сплава к температуре чем -50.degree. Ч. После этого деформировать охлаженный пробел цели алюминиевого сплава вводит пластичное напряжение в пробел цели и уменьшает размер зерна зерен для того чтобы сформировать текстурировать-poluusto1civuh структуру зерна. Окончательно, заканчивающ законченное чистыйа бланк цели алюминиевого сплава sputter цель которая поддерживает текстурировать-poluusto1civuh структуру зерна законченное sputter цель.