A micro spectrophotometer is monolithically constructed on a silicon substrate. The spectrophotometer includes a concave grating, which is used for dispersing optical waves as well as focusing reflected light onto a photodiode array sited on a silicon bridge. The silicon bridge is bent 90.degree. from the surface of the silicon substrate in order to orthogonally intersect the output light from the grating. A precision notch is defined in the silicon substrate for coupling to an optical input fiber. Signal processing circuitry is etched on the substrate using conventional CMOS processes for initial processing of information received from the photodiode array.

Ein Mikrospektrofotometer wird monolithisch auf einem Silikonsubstrat konstruiert. Das Spektrofotometer schließt eine konkave Vergitterung ein, die für das Zerstreuen der optischen Wellen benutzt wird, sowie fokussierenreflektiertes Licht auf eine Fotodiode Reihe stationiert auf einer Silikonbrücke. Die Silikonbrücke ist verbogenes 90.degree. von der Oberfläche des Silikonsubstrates, zwecks das Ausgang Licht von der Vergitterung orthogonal zu schneiden. Eine Präzision Kerbe wird im Silikonsubstrat für die Verbindung zu einer optischen Eingang Faser definiert. Signalaufbereitungschaltkreis wird auf dem Substrat mit herkömmlichen CMOS Prozessen für die Ausgangsverarbeitung der Informationen empfangen von der Fotodiode Reihe geätzt.

 
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