In a method of fabricating a microstructure for microfluidics applications, a first layer of etchable material is formed on a suitable substrate. A mechanically stable support layer is formed over the etchable material. A mask is applied over the support to expose at least one opening in the mask. An anistropic etch is then performed through the opening to create a bore extending through the support layer to said layer of etchable material. After performing an isotropic etch through the bore to form a microchannel in the etchable material extending under the support layer, a further layer is deposited over the support layer until overhanging portions meet and thereby close the microchannel formed under the opening.

In een methode om een microstructuur voor microfluidicstoepassingen te vervaardigen, wordt een eerste laag van etchable materiaal gevormd op een geschikt substraat. Een mechanisch stabiele steunlaag wordt gevormd over het etchable materiaal. Een masker wordt toegepast over de steun om minstens één bloot te stellen openend in het masker. Anistropic etst dan wordt gepresteerd door het openen om te creëren droeg uitbreidend door de steunlaag aan bovengenoemde laag van etchable materiaal. Na het uitvoeren van isotroop ets door droeg om microchannel in het etchable materiaal te vormen zich uitbreidt onder de steunlaag, wordt een verdere laag gedeponeerd meer dan de steunlaag tot de overhangende gedeelten samenkomen en daardoor dicht microchannel die onder het openen wordt gevormd.