An exposure apparatus, wherein at least one of optical members constituting an exposure light source system, an illuminating optical system, a photomask and a projection optical system, is made of a synthetic quartz glass for an optical member, which has an absorption coefficient of 0.70 cm.sup.-1 or less at a wavelength of 157 nm and an infrared absorption peak attributable to SiOH stretching vibration at about 3640 cm.sup.-1.

Un appareillage d'exposition, où au moins un de membres optiques constituant un système de source lumineuse d'exposition, un système optique d'éclairage, un photomask et un système optique de projection, est fait d'un verre synthétique de quartz pour un membre optique, qui a un coefficient d'absorption de 0.70 cm.sup.-1 ou de moins à une longueur d'onde de 157 nm et une limite d'absorption infrarouge attribuable à la vibration s'étendante de SiOH à environ 3640 cm.sup.-1.