With respect to exposure apparatus, apparatus and methods are disclosed for compensating for lateral shift of a leveling table caused by a tilt (.theta.) of the leveling table. One embodiment includes a wafer-stage-position loop servo, a leveling-table tilt-position loop servo, and a first feed-forward loop from the leveling-table tilt-position loop servo to the wafer-stage-position loop servo. The first feed-forward loop converts a torque-control signal for the leveling table to a linear-acceleration-control signal for the wafer stage. Thus, the wafer stage moves laterally to compensate for lateral shift of the leveling table. If the exposure apparatus includes a reticle stage controlled by a reticle-stage-position loop servo, then the subject apparatus can include (in addition to or in place of the first feed-forward loop) a second feed-forward loop from the leveling-table tilt-position loop servo to the reticle-stage-position loop servo. The second feed-forward loop converts a positional signal for the leveling table to a position-control signal for the reticle stage, to cause the reticle stage to undergo lateral compensatory motion. The methods and apparatus provide a faster and more accurate compensation for lateral shifts of the leveling table.

In Bezug auf Belichtung Apparat werden Apparate und Methoden für das Entschädigen der seitlichen Verschiebung einer ebnentabelle freigegeben, die verursacht wird durch eine Neigung (theta.) von der ebnentabelle. Eine Verkörperung schließt ein Oblate-Stadium-Position Schleife Servo, ein Ebnentabelle Kippenposition Schleife Servo und eine erste Einziehenvorwärtsschleife vom Ebnentabelle Kippenposition Schleife Servo zum Oblate-Stadium-Position Schleife Servo ein. Die erste Einziehenvorwärtsschleife wandelt ein Drehkraft-Steuerung Signal für die ebnentabelle in ein Linear-Beschleunigungsteuerung Signal für das Oblatestadium um. So bewegt das Oblatestadium seitlich, um seitliche Verschiebung der ebnentabelle zu entschädigen. Wenn der Belichtung Apparat ein Reticlestadium einschließt, das durch ein Reticle-Stadiumposition Schleife Servo gesteuert wird, dann kann der vorbehaltliche Apparat (zusätzlich oder anstatt zur ersten Einziehenvorwärtsschleife) eine zweite Einziehenvorwärtsschleife vom Ebnentabelle Kippenposition Schleife Servo zum Reticle-Stadiumposition Schleife Servo einschließen. Die zweite Einziehenvorwärtsschleife wandelt ein Positionssignal für die ebnentabelle in ein Position-Steuerung Signal für das Reticlestadium, das Reticlestadium zu veranlassen, seitliche Ausgleichsbewegung durchzumachen um. Die Methoden und die Apparate stellen einen schnelleren und genaueren Ausgleich für seitliche Verschiebungen der ebnentabelle zur Verfügung.