A dual III-V nitride laser structure has a thick current spreading layer on a sapphire substrate and a trench extending into the current spreading layer to reduce thermal cross-talk between the dual lasers.

Uma estrutura dupla do laser do nitride de III-V tem uma camada espalhando atual grossa em uma carcaça do sapphire e em uma trincheira que estendem na camada espalhando atual para reduzir o cross-talk térmico entre os lasers duplos.

 
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> Graded semiconductor layers for reducing threshold voltage for a nitride-based laser diode structure

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