A chemical amplification type positive resist composition comprising: a resin which has a hydroxystyrene-based polymerization unit, a 3-hydroxy-1-adamantyl methacrylate-based polymerization unit and a polymerization unit having a group unstable toward an acid, and, though insoluble or hardly soluble in an alkali in itself, becomes alkali-soluble after the acid-unstable group has been cleaved by the action of an acid; and an acid generating agent is provided. This resist composition is improved in exposure latitude and resolution. Moreover, such properties as sensitivity, heat resistance, the ratio of residual thickness, coatability, and dry etching resistance are also maintained good. Thus, through the use of this composition, a fine resist pattern can be formed with high precision.

Ένα χημικό θετικό τύπων ενίσχυσης αντιστέκεται στη σύνθεση περιλαμβάνοντας: μια ρητίνη που έχει μια χυδροξυστυρενε-βασισμένη μονάδα πολυμερισμού, μια μετχαθρυλατε-βασισμένη στο 3-υδροξύ-1- adamantyl μονάδα πολυμερισμού και μια μονάδα πολυμερισμού που έχουν μια ομάδα ασταθή προς ένα οξύ, και, αν και αδιάλυτος ή μετά βίας διαλυτός σε ένα αλκάλιο σε το, γίνεται διαλυτός σε αλκαλικό διάλυμα μετά από την όξινος-ασταθή ομάδα έχει διασπαστεί από τη δράση ενός οξέος και ένας όξινος παραγωγικός πράκτορας παρέχεται. Αυτό αντιστέκεται στη σύνθεση βελτιώνεται στο γεωγραφικό πλάτος και το ψήφισμα έκθεσης. Επιπλέον, τέτοιες ιδιότητες όπως την ευαισθησία, την αντίσταση θερμότητας, την αναλογία του υπόλοιπου πάχους, το coatability, και την ξηρά αντίσταση χαρακτικής είναι επίσης διατηρημένο αγαθό. Κατά συνέπεια, μέσω της χρήσης αυτής της σύνθεσης, ένα πρόστιμο αντιστέκεται στο σχέδιο μπορεί να διαμορφωθεί με την υψηλή ακρίβεια.