Acid-catalyzed positive resist compositions which are imageable with 193 nm radiation and are developable to form resist structures of high resolution and high etch resistance are enabled by the use of a combination of (a) an imaging polymer comprising a monomer selected from the group consisting of a cyclic olefin, an acrylate and a methacrylate, (b) a radiation-sensitive acid generator, and (c) a lactone additive. The lactone additive preferably contains at least 10 carbon atoms and more preferably at least one saturated alicyclic moiety. The imaging polymer is preferably a cyclic olefin polymer.

Säure-katalysiertes Positiv widerstehen Aufbau, die mit 193 nm der Strahlung imageable sind und developable sind sich zu bilden widerstehen Strukturen der hohen Auflösung und hoher Ätzungwiderstand durch den Gebrauch von einer Kombination (a) eines Belichtung Polymer-Plastiks ermöglicht werden, das eine Monomere enthalten, vorwählte von der Gruppe, die aus einem zyklischen Olefin, einem Acrylat und einem Methacrylat besteht, (b) des strahlungsempfindlichen sauren Generators und (c) des Laktonzusatzes. Der Laktonzusatz enthält vorzugsweise mindestens 10 Kohlenstoffatome und vorzugsweise mindestens eine gesättigte alizyklische Hälfte. Das Belichtung Polymer-Plastik ist vorzugsweise ein Polymer-Plastik des zyklischen Olefins.