In stereolithographic apparatus and method, a mask is formed on a light-transmissible member (glass plate) on the basis of stereolithographic data for one layer of photohardenable resin; photohardenable resin of one layer is successively supplied to form an unhardened resin layer of photohardenable resin; if necessary, a film having light transmission is attached onto the unhardened resin layer so as to cover the unhardened resin layer in close contact with the unhardened resin layer; the light-transmissible member having the mask on or above the film; the unhardened resin layer is plane-exposed to light through the mask to harden the photohardenable resin of the unhardened resin layer; and the light-transmissible member and the film are evacuated from the hardened photohardenable resin layer after the exposure by the exposure means, thereby obtaining a desired three-dimensional object through stereolithography. As the photohardenable resin may be used having a melting temperature ranging from 5 to 90.degree. C. when unhardened. In this case, in at least a part of the photohardened layer forming/laminating process, under a state that an unhardened photohardenable resin layer forming the same surface as a photohardened layer which has been already formed is kept solid at a temperature less than the melting temperature, a layer of photohardenable resin is formed on the surface of the solid photohardenable resin layer, and the photohardenable resin layer is exposed to light controlled on the basis of stereolithographic data to laminate a photohardened layer on the solid photohardenable resin composition layer.

Στις stereolithographic συσκευές και τη μέθοδο, μια μάσκα διαμορφώνεται σε ένα ελαφρύς-διαβιβάσιμο μέλος (πιάτο γυαλιού) βάσει των stereolithographic στοιχείων για ένα στρώμα της photohardenable ρητίνης η photohardenable ρητίνη ενός στρώματος παρέχεται διαδοχικά για να διαμορφώσει ένα μη σκληρυνθέν στρώμα ρητίνης της photohardenable ρητίνης εάν είναι απαραίτητο, μια ταινία που έχει την ελαφριά μετάδοση είναι συνημμένη επάνω στο μη σκληρυνθέν στρώμα ρητίνης ώστε να καλυφθεί το μη σκληρυνθέν στρώμα ρητίνης σε στενή επαφή με το μη σκληρυνθέν στρώμα ρητίνης το ελαφρύς-διαβιβάσιμο μέλος που έχει τη μάσκα σε ή επάνω από την ταινία το μη σκληρυνθέν στρώμα ρητίνης επίπεδος-εκτίθεται στο φως μέσω της μάσκας για να σκληραίνει τη photohardenable ρητίνη του μη σκληρυνθέντος στρώματος ρητίνης και το ελαφρύς-διαβιβάσιμο μέλος και η ταινία εκκενώνονται από το photohardenable στρώμα ρητίνης μετά από την έκθεση με τα μέσα έκθεσης, με αυτόν τον τρόπο λαμβάνοντας ένα επιθυμητό τρισδιάστατο αντικείμενο μέσω της στερεολιθογραφίας. Όπως η photohardenable ρητίνη μπορεί να χρησιμοποιηθεί έχοντας μια θερμοκρασία τήξης που κυμαίνεται από 5 ως 90.degree. Γ. όταν μη σκληρυνθείσα. Σε αυτήν την περίπτωση, τουλάχιστον σε ένα μέρος το στρώμα που διαμορφώνει/διαδικασία τοποθέτησης σε στρώματα, κάτω από ένα κράτος ότι ένα μη σκληρυνθέν photohardenable στρώμα ρητίνης που διαμορφώνει την ίδια επιφάνεια όπως το α το στρώμα που έχει διαμορφωθεί ήδη κρατιέται στερεό σε μια θερμοκρασία λιγότερο από τη θερμοκρασία τήξης, ένα στρώμα της photohardenable ρητίνης διαμορφώνεται στην επιφάνεια του στερεού photohardenable στρώματος ρητίνης, και το photohardenable στρώμα ρητίνης εκτίθεται στο φως που ελέγχεται βάσει των stereolithographic στοιχείων για να τοποθετήσει το α σε στρώματα το στρώμα στο στερεό photohardenable στρώμα σύνθεσης ρητίνης.