The present invention provides fluoride lens crystals for VUV optical lithography systems and processes. The invention provides a barium fluoride optical lithography crystal for utilization in 157 nm optical microlithography elements which manipulate below 193 nm optical lithography photons. The invention includes a barium fluoride crystalline material for use in dispersion management of below 160 nm optical lithography processes.

A invenção atual fornece cristais da lente do fluoreto para sistemas e processos óticos do lithography de VUV. A invenção fornece um cristal ótico do lithography do fluoreto do bário para a utilização em 157 elementos óticos do microlithography do nm que manipulam abaixo de 193 photons óticos do lithography do nm. A invenção inclui um material cristalino do fluoreto do bário para o uso na gerência da dispersão de abaixo 160 processos óticos do lithography do nm.