A method and apparatus for producing a hologram using a two-beam laser interference exposure process, comprising the steps of using as a light source a femtosecond laser having a pulse width of 900-10 femtoseconds and a peak output of 1 GW or more and capable of generating a pulse beam at or close to the Fourier transform limit, dividing the pulse beam from the laser into two by a beam splitter, controlling the two beams temporally through an optical delay circuit and spatially using plane and concave mirrors each having a slightly rotatable reflection surface to converge the beams on a surface of or within a substrate for recording a hologram at an energy density of 100 GW/cm.sup.2 or more with keeping each polarization plane of the two beams in parallel so as to match the converged spot of the two beams temporally and spatially, whereby a hologram is recorded irreversibly on the substrate formed of a transparent material, semiconductor material or metallic material.

Eine Methode und ein Apparat für das Produzieren eines Hologramms mit einem Zweilichtstrahl Laser Störung Belichtung Prozeß, die Schritte vom Verwenden als Lichtquelle enthalten eines femtosecond Lasers, der eine Impulsbreite von 900-10 femtoseconds und einen Höchstausgang von 1 GW oder von mehr hat und das fähig zum Erzeugen eines Impulslichtstrahls oder des nah zu beim Fourier wandeln die Begrenzung um und teilen den Impulslichtstrahl vom Laser in zwei durch einen Lichtstrahlteiler, das Steuern der zwei Lichtstrahlen zeitlich durch ein optisches Verzögerungskreis und räumlich verwenden flache und konkave Spiegel jeder, der hat eine etwas drehbare Reflexion Oberfläche, die Lichtstrahlen auf einer Oberfläche oder innerhalb eines Substrates für das Notieren eines Hologramms an einer Energiedichte von 100 zusammenzulaufen GW/cm.sup.2 oder mehr mit dem Halten jeder Polarisationfläche der zwei Lichtstrahlen in der Ähnlichkeit, um den zusammengelaufenen Punkt der zwei Lichtstrahlen zeitlich und räumlich zusammenzubringen, hingegen ein Hologramm irreversibel auf dem Substrat notiert wird, das von einem transparenten Material, von einem Halbleitermaterial oder vom metallischen Material gebildet wird.