Ozone gas having a high ozone concentration is generated by a solid electrolyte electrolytic process. An ozone solution is prepared by injecting the ozone gas into an acidic solution of pH 6 or below. The ozone solution heated at a temperature in the range of 50.degree. to 90.degree. C. is supplied to a contaminated object to oxidize and dissolve a chromium oxide film by an oxidizing dissolving process. The ozone solution used in the oxidizing dissolving process is irradiated with ultraviolet rays to decompose ozone contained in the ozone solution, the ozone solution is passed through an ion-exchange resin to remove ions contained in the ozone solution. An oxalic acid solution is supplied to the contaminated object to dissolve an iron oxide film by a reductive dissolving process. Oxalic acid remaining in the oxalic acid solution after the reduction dissolving process is decomposed by injecting ozone into the oxalic acid solution and irradiating the oxalic acid solution with ultraviolet rays, and ions contained in the oxalic acid solution is removed by an ion-exchange resin.

Das Ozon-Gas, das eine hohe Ozon-Konzentration hat, wird durch einen elektrolytischen Prozeß des festen Elektrolyts erzeugt. Eine Ozon-Lösung wird vorbereitet, indem man das Ozon-Gas in eine säurehaltige Lösung von pH 6 oder unten einspritzt. Die Ozon-Lösung geheizt bei einer Temperatur in der Strecke 50.degree. zu 90.degree. C. wird an einen verschmutzten Gegenstand geliefert, um einen Chromoxidfilm zu oxidieren und aufzulösen durch einen oxidierenden auflösenden Prozeß. Die Ozon-Lösung, die im oxidierenden auflösenden Prozeß benutzt wird, wird mit ultravioletten Strahlen bestrahlt, um den Ozon zu zerlegen, der in der Ozon-Lösung, die Ozon-Lösung enthalten wird, wird überschritten durch ein Ionenaustauschharz, um die Ionen zu entfernen, die in der Ozon-Lösung enthalten werden. Eine oxalische saure Lösung wird an den verschmutzten Gegenstand geliefert, um einen Eisenoxidfilm aufzulösen durch einen vermindernden auflösenden Prozeß. Die oxalische Säure, die in der oxalischen sauren Lösung nach dem Verkleinerung auflösenden Prozeß restlich ist, wird zerlegt, indem man Ozon in die oxalische saure Lösung einspritzt und die oxalische saure Lösung mit ultravioletten Strahlen bestrahlt, und die Ionen, die in der oxalischen sauren Lösung enthalten werden, wird durch ein Ionenaustauschharz entfernt.