A falling film plasma reactor (FFPR) provides a number of benefits for the treatment of process gases. The falling film plasma reactor uses high voltage alternating current or pulsed direct current which is applied to radially separated electrodes to thereby create a dielectric breakdown of the process gas that is flowing within the large radial gap between the two electrodes. Typical plasma reactors often utilize fixed dielectric construction which can result in potential failure of the device by arcing between the electrodes as portions of the dielectric fail. Such failures are prevented by using a dielectric liquid that constantly flows over the electrodes, or over a fixed dielectric barrier over the electrodes.

Ein Rieselfilmplasmareaktor (FFPR) stellt eine Anzahl von Nutzen für die Behandlung der Prozeßgase zur Verfügung. Der Rieselfilmplasmareaktor benutzt Hochspannungswechselstrom oder pulsierten Gleichstrom, der auf radial getrennte Elektroden zugetroffen wird, um einen dielektrischen Durchschlag des Prozeßgases dadurch zu verursachen, das innerhalb des großen Radialabstandes zwischen die zwei Elektroden fließt. Typische Plasmareaktoren verwenden häufig örtlich festgelegten dielektrischen Aufbau, der möglichen Ausfall der Vorrichtung ergeben kann, indem es zwischen den Elektroden während Teile dielektrischen Ausfallen einen Bogen bildet. Solche Ausfälle werden verhindert, indem man eine dielektrische Flüssigkeit, die ständig über die Elektroden fließt, oder Überschuß eine örtlich festgelegte dielektrische Sperre über den Elektroden verwendet.