A chemically amplified resist composition comprises an aqueous base soluble polymer or copolymer having one or more polar functional groups, wherein at least one of the functional groups is protected with a cycloaliphatic silyl ketal group but may also include other protecting groups as well as unprotected acidic functionalities. A ratio of protected to unprotected acidic functionalities is preferably selected to most effectively modulate a solubility of the resist composition in an aqueous base or other developer. The resist composition further comprises an acid generator, preferably a photoacid generator (PAG), and a casting solvent, and may also include other components, such as, a base additive and/or surfactant.

Amplificado quimicamente resiste a composição compreende um polímero ou um copolymer soluble baixo aqueous que têm um ou mais grupo funcional polar, wherein ao menos um dos grupos funcionais é protegido com um grupo ketal do silyl cycloaliphatic mas pode também incluir outros grupos protegendo as.well.as funcionalidades acidic desprotegidas. Uma relação do protegido às funcionalidades acidic desprotegidas é selecionada preferivelmente para modular o mais eficazmente um solubility da composição resistir em uma base aqueous ou no outro colaborador. A composição resistir mais adicional compreende um gerador ácido, preferivelmente um gerador do photoacid (PAG), e um solvente da carcaça, e pode também incluir outros componentes, como, um aditivo e/ou um surfactant baixos.