A method for manufacturing a pair of complementary masks for use in an electron projection lithographic (EPL) technique uses an algorithm for distributing the design data to a pair of EPL masks. The algorithm allocates a positive sign or negative sign to each of the pattern data, summation of the areas of the pattern data having positive signs while subtracting the areas of the pattern data having negative signs, for obtaining a minimum of the sum. One or more of initial combination of the signs is prepared and the vicinity of the initial combination is calculated therefrom for obtaining an optimum combination.

Un metodo per la produzione dell'accoppiamento delle mascherine complementari per uso in una tecnica litografica della proiezione dell'elettrone (EPL) usa una procedura per la distribuzione dei dati di disegno ad un accoppiamento delle mascherine di EPL. La procedura assegna un segno positivo o il segno negativo a ciascuno dei dati del modello, sommatoria. delle zone dei dati del modello che hanno segni positivi mentre sottrae le zone dei dati del modello che hanno segni negativi, per ottenere un minimo della somma. Uno o più della combinazione iniziale dei segni è preparato e la vicinanza della combinazione iniziale è calcolata da ciò per ottenere una combinazione ottimale.