In a projection exposure apparatus for illuminating a reticle with light from an illumination optical system and projecting a pattern of the reticle onto a substrate through a projection optical system. The illumination optical system includes a first optical element for switching a light distribution at a position optically conjugate with the pupil plane of the projection optical system, a second optical element for making the light uniform at the position optically conjugate with the an image plane of the projection optical system, and a third optical element for adjusting a non-uniformity of exposure resulting from switching the light distribution using the first optical element.

В приборе выдержки проекции для освещать перекрещение с светом от системы освещения оптически и проектировать картину перекрещения на субстрат через систему проекции оптически. Система освещения оптически вклюает первый оптически элемент для переключать распределение света на положении оптически спрягает с плоскостью зрачка системы проекции оптически, второй оптически элемент для делать светлое равномерное на положении оптически спрягает с плоскостьа изображения системы проекции оптически, и третий оптически элементом для регулировать non-uniformity выдержки приводящ к от переключать распределение света использующ первый оптически элемент.