One aspect of the present invention relates to a feedback-driven, closed loop system/method for obtaining consistently formed semiconductor structures. The system/method involves controlling the progression of a lithography process such as a deposition or etching process. The system employs one or more piezoelectric sensors, such as quartz crystal sensors, integrated on a wafer. During the lithography process, the sensors produce frequency data which is analyzed and communicated to a lithography process controller in order to modulate one or more process parameters and/or one or more process components. The frequency data indicates the progression of the lithography process and facilitates determining whether the parameters/components need correction to obtain structures which are consistent throughout the wafer and from wafer to wafer. Data generated by each sensor located at an area on the wafer may be cross-referenced with data from other sensors on the wafer and with data from other wafers to ensure uniformity and consistency among the wafers.

Ein Aspekt der anwesenden Erfindung bezieht auf einer Rückgespräch-gefahrenen, Endlosschleife system/method für das Erhalten der durchweg gebildeten Halbleiterstrukturen. Das system/method bezieht, die Weiterentwicklung eines Lithographieprozesses wie eine Absetzung zu steuern mit ein oder Prozeß zu ätzen. Das System setzt einen oder mehr piezoelektrischen Sensoren, wie Quarzkristall-Sensoren ein, integriert auf einer Oblate. Während des Lithographieprozesses die Sensoren produzieren Frequenzdaten, die zu einem Lithographieprozeßsteuerpult analysiert und mitgeteilt wird, um einen oder mehr Prozeßparameter und/oder ein oder mehr zu modulieren Prozeßbestandteile. Die Frequenzdaten zeigen die Weiterentwicklung des Lithographieprozesses an und erleichtern, ob man die parameters/components Notwendigkeit Korrektur festzustellen, Strukturen erhält, die während der Oblate und von Oblate zu Oblate gleichbleibend sind. Die Daten, die durch jeden Sensor gelegen ist an einem Bereich auf der Oblate erzeugt werden, können mit Daten von anderen Sensoren auf der Oblate und mit Daten von anderen Oblaten verwiesen werden, um Gleichförmigkeit und Übereinstimmung unter den Oblaten sicherzustellen.