A planar spectrograph for demultiplexing optical wavelength signals includes a monolithic substrate. The substrate has a diffraction grating etched therein. The diffraction grating is integrally formed in the substrate to be in operative relationship with input light to diffract and reflect the input light to a detector. A recess is formed in the substrate to accommodate a separate slab waveguide. A slab waveguide is dimensioned and configured to fit within the recess, and the waveguide guides input light to and from the diffraction grating. A silicon-on-insulator spectrographs is also described, as well as, fabrication processes for manufacturing these spectrographs.

Ein planarer Spektrograph für das Entmultiplexieren der optischen Wellenlängesignale schließt ein monolithisches Substrat mit ein. Das Substrat hat ein Beugungsgitter, das darin geätzt wird. Das Beugungsgitter wird integral im Substrat gebildet, um im wirksamen Verhältnis zum Eingang Licht zu sein, zum des Eingang Lichtes an einen Detektor zu beugen und mitzuteilen. Eine Aussparung wird im Substrat gebildet, um einen unterschiedlichen Plattewellenleiter unterzubringen. Ein Plattewellenleiter wird bemessen und zusammengebaut, um innerhalb der Aussparung zu passen, und der Wellenleiter führen Eingang Licht nach und von dem Beugungsgitter. Eine Silikon-auf-Isolierung Spektrographe wird auch, sowie, Herstellung Prozesse für die Produktion dieser Spektrographe beschrieben.