A microactuator is formed by defining stator and rotor regions on a wafer. Isolation barriers are formed in the stator and rotor regions to define a isolation regions. Conductive suspension beam are formed between the first and second isolation regions, and wafer material between the stator and rotor regions is removed to form a stator and a rotor. The microactuator is arranged to position a load device having an electrical component. The suspension beams support the rotor and load device and provide electrical connection between the stator and rotor for the microactuator and/or the load device.

Um microactuator é dado forma por regiões definindo do estator e do rotor em um wafer. As barreiras da isolação são dadas forma nas regiões do estator e do rotor para definir regiões da isolação. O feixe condutor da suspensão é dado forma entre as primeiras e segundas regiões da isolação, e o material do wafer entre o estator e as regiões do rotor é removido para dar forma a um estator e a um rotor. O microactuator é arranjado para posicionar um dispositivo de carregamento que tem um componente elétrico. Os feixes da suspensão suportam o rotor e o dispositivo de carregamento e fornecem a conexão elétrica entre o estator e o rotor para o microactuator e/ou o dispositivo de carregamento.