There are provided a photosensitive polymer having a copolymer of alkyl vinyl ether and a resist composition containing the same. The photosensitive polymer includes a copolymer of alkyl vinyl ether and maleic anhydride, represented by the following structure: ##STR1## wherein X is one of a linear alkyl vinyl ether and a cyclic alkyl vinyl ether, which are respectively represented by the structures ##STR2## wherein y is one of the integer values 1 through 4, R.sub.1 is one of a hydrogen atom and a methyl group, R.sub.2 is a C.sub.1 to C.sub.20 hydrocarbon, and R.sub.3 is one of a hydrogen atom, a C.sub.1 to C.sub.3 alkyl group and an alkoxy group.

È fornito un polimero fotosensibile che ha un copolimero dell'etere alchilico del vinile e una composizione in resistenza che contiene lo stesso. Il polimero fotosensibile include un copolimero dell'etere alchilico del vinile e dell'anidride maleica, rappresentato dalla seguente struttura: ## del ## STR1 in cui la X è una di un etere alchilico lineare del vinile e un etere alchilico ciclico del vinile, che sono rappresentati rispettivamente dal ## del ## STR2 delle strutture in cui y è uno dei valori da 1 a 4 di numero intero, R.sub.1 è uno di un atomo dell'idrogeno e di un gruppo metilico, R.sub.2 è un C.sub.1 all'idrocarburo C.sub.20 e R.sub.3 è uno di un atomo dell'idrogeno, un C.sub.1 al gruppo alchile C.sub.3 e ad un gruppo alkoxy.