The present invention relates to a silicon-containing copolymer which includes a maleic anhydride repeating unit, a norbornene repeating unit, and at least one silicon group-containing norbornene repeating unit. The silicon-containing copolymer is suitable for use as a top layer resist in a bilayer resist system.

Присытствыющий вымысел относит к кремни-soderja сополимеру вклюает малеиновый ангидрин повторяя блок, norbornene повторяя блок, и по крайней мере одно norbornene кремния групп-soderja повторяя блок. Кремни-soderja сополимер целесообразн для пользы по мере того как верхний слой сопротивляет в bilayer сопротивляет системе.

 
Web www.patentalert.com

< Optical resin composition comprising thiol-ene prepolymer

< Multi-layer stretch film

> Polarizer protection film

> Photosensitive polymer including copolymer of alkyl vinyl ether and resist composition containing the same

~ 00095