A method of modifying a surface is disclosed. The method includes contacting the surface with a hydridosilane under conditions and for a time sufficient to form a covalent bond between a silicon atom of the hydridosilane and the oxygen atom of a hydroxyl group on the surface. The hydridosilane has the formula ##STR1## where at least one of R.sup.a, R.sup.b, R.sup.c, and R.sup.d is H, and at least one of R.sup.a, R.sup.b, R.sup.c, and R.sup.d is not H.

Μια μέθοδος μια επιφάνεια αποκαλύπτεται. Η μέθοδος περιλαμβάνει την επαφή της επιφάνειας με ένα hydridosilane υπό τους όρους και για έναν χρόνο επαρκή για να διαμορφώσει έναν ομοιοπολικό δεσμό μεταξύ ενός ατόμου πυριτίου του hydridosilane και του ατόμου οξυγόνου μιας ομάδας υδροξυλίου σχετικά με την επιφάνεια. Το hydridosilane έχει τον τύπο ## STR1 ## όπου τουλάχιστον ένα από R.sup.a, R.sup.b, R.sup.c, και R.sup.d είναι χ, και τουλάχιστον ένα από R.sup.a, R.sup.b, R.sup.c, και R.sup.d δεν είναι χ.

 
Web www.patentalert.com

<

< Method of vertically aligning carbon nanotubes on substrates at low pressure using thermal chemical vapor deposition with DC bias

> Method and system for molecular charge storage field effect transistor

> Method of producing metal particles by spray pyrolysis using a co-solvent and apparatus therefor

~ 00095